中科院全固态 DUV 光源技术诞生，能生产 3nm 芯片？

中科院全固态 DUV 光源技术诞生，这一消息引起网友围观。早年中企参观学习遭拒，后被限制进口光刻机。如今中科院研究人员成功研发出突破性的 DUV 激光，绕过了 ASML 的技术限制。中科院全固态 DUV 光源技术优势明显，不仅摆脱对稀有资源依赖，还能降低成本、提升工艺。

ASML 的 DUV 光刻机技术存在问题

ASML 的 DUV 光刻机采用 Arf 准分子激光技术，存在依赖稀有气体、体积臃肿、能耗高、受专利保护等问题。而中科院的全固态 DUV 光源技术有独特原理，性能出色。

3nm 芯片工艺的重大意义

3nm 芯片工艺接近天花板，相比 7nm 有诸多优势。目前国产 DUV 光刻机配套关卡基本打通，中科院全固态 DUV 光源技术诞生意义重大，或改变芯片产业格局。你认为中国芯片技术多久能赶超国际巨头？